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蔡向荣 先生
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发布时间:2021-11-12 09:06:51
UV镀膜有一项关键参数:流平时间,就是你每喷一层之后一定要给5~10分钟的时间让UV流平。再一个关键就是镀层必须均匀,手法要稳!看到有白雾说明稍微厚了些,急了些。要薄,匀!不能流挂!
目前在汽车车灯反射罩应用领域,已经完全采用在PC、BMC等塑料表面通过真空镀铝膜来提高反射效果,用于这一领域的UV涂料要求具有良好的流平性,高耐温性(用于PC基材要求120℃以上,BMC基材高达180℃以上)。
从镀膜的原理及特点看,真空蒸镀工件不带电,真空条件下金属加热蒸发沉积到工件表面,沉积粒子的能量与蒸发时的温度对应。溅射的工件为阳极,靶为阴极,利用原子的溅射作用把靶材原子击出而沉积在工件表面上,沉积原子的能量由被溅射原子的能量分布决定。离子镀的工件为阴极,蒸发源为阳极,进入辉光放电空间的金属原子离子化后奔向工件,并在工件表面沉积成膜,沉积过程中离子对基片表面、膜层与基片的界面以及膜层本身都发生轰击作用,粒子的能量决定于阴极上所加的电压。
真空镀膜基本方法 :
从被沉积物质的气化方式看,真空蒸镀为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等;溅射的镀料原子不是靠加热方式蒸发,而是靠阴极溅射由靶材获得沉积原子;离子镀可以分为蒸发式或者溅射式,蒸发式为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等,溅射式由进入辉光放电空间的原子由气体提供,反应物沉积在基片上。
真空镀膜的效果是什么呢?
1、增加镀层与基材表面的附着力。
2、封闭基材内的残留物,确保镀膜质量
通过涂层来封闭基材内的残留物、腐蚀性气体残留及脱模剂润滑剂等油脂性分子残留,防止真空镀膜时或工件使用过程中基材中的这些挥发性杂质溢出,影响镀膜质量。
3、提高基材表面平整度,确保镜面镀膜效果
得到理想的镜面反射效果。可填平基材表面的缺陷并得到理想的真空镀膜金属光泽效果。
真空镀膜应用,简单地理解就是在真空环境下,利用蒸镀、溅射以及随后凝结的办法,在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。
相对于传统镀膜方式,真空镀膜应用属于一种镀膜,它的主要方法包括以下几种
1、真空蒸镀:其原理是在真空条件下,用蒸发器加热带蒸发物质,使其气化或升华,蒸发离子流直接射向基片,并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。
2、溅射镀膜:溅射镀膜是真空条件下,在阴极接上2000V高压电,激发辉光放电,带正电的离子撞击阴极,使其射出原子,溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。
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