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蔡向荣 先生
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发布时间:2021-11-15 17:41:30
从镀膜的原理及特点看,真空蒸镀工件不带电,真空条件下金属加热蒸发沉积到工件表面,沉积粒子的能量与蒸发时的温度对应。溅射的工件为阳极,靶为阴极,利用原子的溅射作用把靶材原子击出而沉积在工件表面上,沉积原子的能量由被溅射原子的能量分布决定。离子镀的工件为阴极,蒸发源为阳极,进入辉光放电空间的金属原子离子化后奔向工件,并在工件表面沉积成膜,沉积过程中离子对基片表面、膜层与基片的界面以及膜层本身都发生轰击作用,粒子的能量决定于阴极上所加的电压。
真空镀膜基本方法 :
从被沉积物质的气化方式看,真空蒸镀为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等;溅射的镀料原子不是靠加热方式蒸发,而是靠阴极溅射由靶材获得沉积原子;离子镀可以分为蒸发式或者溅射式,蒸发式为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等,溅射式由进入辉光放电空间的原子由气体提供,反应物沉积在基片上。
佛山市锦城镀膜有限公司是一家从事耐高温车辆灯具注塑以及镀膜为主的厂家,公司秉承“以质取胜,求真务实,顾客至上”理念,欢迎广大客户光临了解.
镀膜前可经电子束预热表面活化,镀膜纯度高,没有中间硬脆的合金层,可以一次冲压成型,甚至可以卷成直经很小的管而不脱落镀层。
工艺灵活,改变品种方便,可以根据产品要求灵活地实现在钢带上镀单面、双面、单层、多层,可以同时镀两种材料达到镀混合膜。镀膜厚度易于控制,而且可以镀制超薄膜。
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真空蒸发镀铝涂层的工艺参数,主要包括蒸镀室的压力、沉积速率、基片温度、蒸距等。如果从膜片基体上分布的均匀性上考虑,还应当注意蒸发源对基片的相对位置及工件架的运动状态等方面的因素。
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