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蔡向荣 先生
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发布时间:2021-12-15 03:42:22
摩擦系数较低,耐腐蚀性较好,耐磨性和抗冲击性良好。阴极电弧离子镀具有高的靶电离率和强的膜基键合力的优点,但是在沉积过程中产生了许多大颗粒,这影响了膜的表面粗糙度。磁控溅射具有成膜粗糙度小,无大颗粒,光滑均匀的特点。然而,反应磁控溅射具有高反应性气体或金属靶的电离率,并且所获得的膜往往具有许多空隙和缺陷,这倾向于导致不充分和致密的膜结构和差的耐腐蚀性。目前,两种技术主要用于去除大颗粒污染。第二种是在运输过程中对液体颗粒进行磁过滤。过滤阴极真空电弧沉积是一种磁场,引导等离子体绕过障碍物,而大颗粒由于电中性而与障碍物碰撞,从而去除大颗粒并避开薄膜。
真空镀膜技术可使用的材料广泛:可作为真空镀膜材料有几十种,包括金属、合金和非金属.真空镀膜加工还可以加工出多层结构的复合膜,满足对涂层各种不同性能的需求。真空镀膜技术性能优良:真空镀膜厚度远小于电镀层,但涂层的耐摩擦和耐腐蚀性能良好,孔隙率低,而且无氢脆现象,相对电镀加工而言可以节约大量金属材料。镀膜技术可以实现铝、钛、锆等镀层,甚至可以加硬和类金刚石涂层,这是十分难能可贵的。
镀膜应用是真空应用中的一个大分支,在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。
其原理是在真空条件下,用蒸发器加热带蒸发物质,使其气化或升华,蒸发离子流直接射向基片,并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。以实现柔性基体的一些功能性、装饰性属性。真空镀膜反光杯厂家
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镀膜的属性
金属外观 颜色均匀一致 耐久的表面,在各种基本的空气和直射阳光环境条件下保持良好外观。颜色深韵、光亮。
经济,可减少清洗和擦亮电镀黄铜或金色所必须的时间和成本。使用一块软布和玻璃清洁剂即可清洁干净的膜层。
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