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蔡向荣 先生
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发布时间:2021-12-26 10:45:09
摩擦系数较低,耐腐蚀性较好,耐磨性和抗冲击性良好。阴极电弧离子镀具有高的靶电离率和强的膜基键合力的优点,但是在沉积过程中产生了许多大颗粒,这影响了膜的表面粗糙度。磁控溅射具有成膜粗糙度小,无大颗粒,光滑均匀的特点。然而,反应磁控溅射具有高反应性气体或金属靶的电离率,并且所获得的膜往往具有许多空隙和缺陷,这倾向于导致不充分和致密的膜结构和差的耐腐蚀性。目前,两种技术主要用于去除大颗粒污染。第二种是在运输过程中对液体颗粒进行磁过滤。过滤阴极真空电弧沉积是一种磁场,引导等离子体绕过障碍物,而大颗粒由于电中性而与障碍物碰撞,从而去除大颗粒并避开薄膜。
镀膜应用是真空应用中的一个大分支,在光学、电子学、理化仪器、包装、机械以及表面处理技术等众多方面有着十分广泛的应用。在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上镀上金属薄膜或者是覆盖层。
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电镀能提高金属零件在使用环境中的抗蚀性能;装饰零件的外表,使其光亮美观;提高零件的工作性能,如硬度,耐磨,导电性,电磁性、耐热性,钎焊性及其他特殊性能。
1、镀层与基体,包括镀层与基体之间,应有良好的结合力;
2、镀层在零件的主要表面上,应有比较均匀的厚度和细致的结构;
3、镀层应具有规定的厚度和尽可能少的孔隙;
4、镀层应具有规定的各项指标,例如表面粗糙度、硬度、色彩以及盐雾试验耐试性。
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