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真空镀膜所用的塑料材料，需要与膜层结合性高，放气量小，受热稳定，同时满足这三个条件的塑料材料是非常少的，但塑料材料在工业生产中的应用却非常广泛，所以塑料真空镀膜机的应用也随之发展起来，为了使更多的塑料投入到真空镀膜中，常常通过各种方法改进。

镀上膜层后，可以很好的发挥其机械性能、抗冲击性，依靠其硬度大。

厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。真空放气量：某些素材中可能含易挥发小分子（包括水分、增塑剂、残留溶剂、未反应单体、增加剂等）在真空状态下将以气体形式溢出，***镀膜层的附着力：平整性和外观素材在常温下放气并不明显，但在真空状态下，随温度上升，放气量增大。

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真空电镀主要有蒸发镀、溅射镀、离子镀及分子束外延等。真空电镀的目的是为了改变物质表面的物理、化学性能，是真空表面处理技术的重要组成部分。 真空离子电镀工艺可以通过调节机器设备参数从而改变表面得到所需要的特定色彩。