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蔡向荣 先生
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发布时间:2022-03-28 03:08:33
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :
偏压:偏压施加于工件上,在辉光清洗时工件(阴极)与炉体之间产生辉光放电,部分气被电子离化产生离子,离子(带正电)在负偏压作用下受工件吸引轰击清洗工件表面,偏压越大,对工件的轰击净化越干净,但同时工件本身的温升也越大,特别是尖角位棱角位置;在离子轰击中用于加速离子,提高离子轰击工件表面的能量,去除表面氧化层和吸附物,达到提高膜层结合力的作用。这种镀膜剂在使用中,j基团会被紫外线分解,附着在上面的硅元素也随之脱落。
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在膜层沉积时,用于增加离子能量,促进和改善薄膜生长,提高膜基结合力。
偏压越大离子附加能量越强,沉积过程中对膜层的轰击净化作用越明显,膜层越致密,同时颜色会越浅,膜层L值(亮度)会增加,显微硬度会增加、同时膜层外观粗糙度会变差,沉积过程中工件和膜层温升越大,偏压太大可能使工件变形受伤,或产生热应力崩膜。
镀膜技术也叫薄膜技术,是在真空条件下采用物理或化学方法,使物体表面获得所需的膜体。真空镀膜技术是使置待镀金属和被镀塑料制品位于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使金属蒸发或升华,金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。镀膜技术是初起源于20世纪30年代,直到70年代后期才得到较大发展的一种技术。目前已被广泛应用于耐酸、耐蚀、耐热、表面硬化、装饰、润滑、光电通讯、电子集成、能源等领域.
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