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佛山市锦城镀膜有限公司

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注塑矿工头灯反光杯询问报价「在线咨询」

发布时间:2022-04-13 18:37:05        







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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :占空比:占空比是指脉冲偏压的通断时间比,占空比越大,同一个周期时间内偏压输出时间越长,增大占空比可以提高离子轰击的能量,有利于提高膜基结合力和膜层致密性和膜层的硬度,但会提高工件的温升;真空镀膜的形式:蒸发镀膜工艺原理:4)沉积原子之间产生两维碰撞,形成簇团,有的在表面停留一段时间后再蒸发。减小占空比有利于***打火损伤和降低工件表面的温度、辉光放电清洗和离子轰击的效果。



真空镀膜的形式:蒸发镀膜


工艺原理:

1)在真空室中,膜料被加热变成蒸发原子,蒸发原子在真空条件下不与残余气

体分子碰撞而到达工件表面;

2)蒸发原子与基材碰撞后一部分被反射,另一部分被吸附;

3)吸附原子在基材表面发生表面扩散。






用普通真空镀膜只能镀直射表面,蒸发料粒子尤如攀登云梯一样,只能顺梯而上;而离子镀则能均匀地绕镀到零件的背面和内孔中,带电离子则好比坐上了直升飞机,能够沿着规定的航线飞抵其活动半径范围内的任何地方。






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