江门工程车辆反光杯加工厂家免费咨询 锦城镀膜

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真空镀膜之多弧离子镀 ：该装置的优点是阴极电弧源既是蒸发源和离化源 ,又是加热源和轰击源,不用熔池,弧源可任意方位,多源布置。离化率高,一般可达60%-80%蒸发沉积速率快, 入射粒子能量高,沉积膜的质量和附着性能好。可蒸发各种导电材料,金属或合金, 成份不受限制。能进行反应镀膜,缺点是易于产生液滴,***不致密。镀膜基片镀膜基片有：浮法原片、切磨玻璃、钢化玻璃、彩釉玻璃、夹层玻璃等。

物理l气相沉积（真空镀膜）基本方法 ：

1、从沉积粒子能量（中性原子）来看，真空蒸镀为0.1-1eV，溅射为1-10eV，离子镀为0.1-1eV（此外还有高能中性原子）。

2、从沉积速率来看，真空蒸镀为0.1-70μm/min，溅射为0.01-0.05μm/min(磁控溅射接近于真空蒸镀)，离子镀为0.1-50μm/min。

真空镀膜技术优点主要表现在以下几个方面：

改善表面硬度，原塑胶表面比金属软而易受损害，通过真空镀膜技术，硬度及耐磨性大大增加；

可以提高耐候性，一般塑料在室外会老化的非常快，主要原因是紫外线照射所致，而镀铝后，铝对紫外线反射强，所以耐候性大大提高。