加工注塑尾灯反光杯信赖推荐「锦城镀膜」

镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：

离子轰击：指利用高能高密度的金属离子流和ya离子流对工件进行离子轰击清洗，能有效去除工件表面的氧化物；但需注意工件温升过热退火和轰出表面缺陷。

本底真空度: 本底真空度越高炉内杂气量(包括水气)越少,这保证镀膜时反应气体的纯度,从而保证膜层颜色的纯正和光泽鲜亮。一般本底真空应该进入5-7*10-3

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真空镀膜的形式：蒸发镀膜

工艺原理：

1）在真空室中，膜料被加热变成蒸发原子，蒸发原子在真空条件下不与残余气

体分子碰撞而到达工件表面；

2）蒸发原子与基材碰撞后一部分被反射，另一部分被吸附；

3）吸附原子在基材表面发生表面扩散。

溅射镀膜原理：

溅射镀膜是利用溅射现象来达到制取各种薄膜的目的，即在真空室中利用荷能离子轰击靶表面，使被轰击出的粒子在基底上沉积的技术。辉光放电是在10-2Pa-10Pa真空度范围内，在两个电极之间加上高压时产生的放电现象。优点：以溅射产率高、基片温升低、薄膜基底结合力好、装置性能稳定、操作控制方便等优点受到青睐，磁控溅射法可获得高度c轴取向，表面平整度高，可见光透过率较高及低电阻率Zn0:A1的薄膜。它是离子溅射镀膜的基础，即离子溅射镀膜中的入射离子一般利用气体放电法得到。

用普通真空镀膜只能镀直射表面，蒸发料粒子尤如攀登云梯一样，只能顺梯而上；而离子镀则能均匀地绕镀到零件的背面和内孔中，带电离子则好比坐上了直升飞机，能够沿着规定的航线飞抵其活动半径范围内的任何地方。