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珠海***生产矿工头灯反光杯在线咨询「锦城镀膜」

发布时间:2022-05-03 02:17:01        







公司秉承“以质取胜,求真务实,顾客至上”理念,欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :从膜层特点看,真空蒸镀低温时密度小但表面光滑、气孔低温时多、附着性不太好、内应力为拉应力绕射性差;溅射密度大、气孔少但混入溅射气体较多、附着性较好、内应力为压应力、绕射性差;离子镀密度大 ,无气孔但膜层缺陷较多,附着性很好,内应力视工艺 条件而定,绕射性较好。反应溅射就是在反应气体环境中镀膜,溅射过程中靶材会与溅射气体发生化学反应。






镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:

烘烤温度:真空室抽气时烘烤有利于真空室和工件解吸已吸附的空气和水气,这是保证膜色调纯正的重要因素之一。要注意的是,我们的设备一般采用加热棒烘烤,以热电偶测温,热电偶的感温端位置不能靠近发热棒,否则不能反映炉内环境和工件的实际温度。

离子轰击:指利用高能高密度的金属离子流和ya离子流对工件进行离子轰击清洗,能有效去除工件表面的氧化物;但需注意工件温升过热退火和轰出表面缺陷。





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用普通真空镀膜只能镀直射表面,蒸发料粒子尤如攀登云梯一样,只能顺梯而上;而离子镀则能均匀地绕镀到零件的背面和内孔中,带电离子则好比坐上了直升飞机,能够沿着规定的航线飞抵其活动半径范围内的任何地方。






光学薄膜有改变电磁波的路径的特性■光学薄膜很薄时就会产生干涉,当光学薄膜很厚时就产生不了干涉当我们把很薄的膜组合起来就有很多新的特性产生。

参数:E值:辐射率。辐射率是指透过玻璃的远红外线与入射远红外线之比。辐射率越小,通过膜层反射回去的热量越多,隔热效果越好。(E=0.0129R-6.75R2)







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