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经营模式: | 生产加工 |
所在地区: | 广东 佛山 |
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蔡向荣 先生
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公司地址: | 广东省佛山市顺德区乐从镇良村工业区北区6号 |
发布时间:2022-05-07 03:35:12
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物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :
1、从沉积粒子能量(中性原子)来看,真空蒸镀为0.1-1eV,溅射为1-10eV,离子镀为0.1-1eV(此外还有高能中性原子)。
2、从沉积速率来看,真空蒸镀为0.1-70μm/min,溅射为0.01-0.05μm/min(磁控溅射接近于真空蒸镀),离子镀为0.1-50μm/min。
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :
在膜层沉积时,用于增加离子能量,促进和改善薄膜生长,提高膜基结合力。
偏压越大离子附加能量越强,沉积过程中对膜层的轰击净化作用越明显,膜层越致密,同时颜色会越浅,膜层L值(亮度)会增加,显微硬度会增加、同时膜层外观粗糙度会变差,沉积过程中工件和膜层温升越大,偏压太大可能使工件变形受伤,或产生热应力崩膜。
基体温度:镀膜时基体温度直接影响膜层的结构、致密性和附着力,温度可用T/Tm值来确定,如;靶材为钛,其熔点为1670℃,基体温度应该选择TI/TM=0.15-0.25即 250-417℃才能得到理想的晶粒***。在离子轰击中用于加速离子,提高离子轰击工件表面的能量,去除表面氧化层和吸附物,达到提高膜层结合力的作用。考虑到沉积粒子受负偏压作用加速轰击工件还会引起温升,基体可选在250-300℃
弧靶电流:弧靶电流越大,靶材蒸发量越大,靶面温度越高,冷却越差,弧靶产生的液滴大颗粒越多,膜层外观越差,膜层中的缺陷越多。热反射玻璃的特点:通过镀不同薄膜,控制对太阳直接辐射的反射、透过和吸收,达到调节热量传递的目的。本底漏率:本底漏率是指真空室在未加入气体单位之前本身的单位漏率,漏率越大,进入炉内的杂气就越多,不管真空度多高,这会严重影响镀膜过程中炉内气氛的纯度和工件表面的洁净度,会***膜层的结合力和膜层颜色的纯度。
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