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蔡向荣 先生
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公司地址: | 广东省佛山市顺德区乐从镇良村工业区北区6号 |
发布时间:2022-05-11 04:04:58
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真空镀膜之多弧离子镀 :
多弧离子镀又称电弧离子镀或阴极离子镀是以镀膜材料为阴极,阳极和真空室相连,阴极和阳极分别接到低压大电流直流电源的负极和正极。蒸镀时由于放电,在阴极表面上出现明亮的弧斑, 从而使阴极材料蒸发并电离, 形成金属等离子体。镀膜前基片必须用纯净水清洗,去除基片表面的灰尘、污垢、油腻等杂质,因为表面的杂质将会影响膜层的附着能力,或者影响镀膜玻璃的外观质量。引弧电极与阴极靶表面接触和离开的瞬间,阴极和阳极之间形成稳定的自持弧光放电。
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :
靶功率;6)当原子数超过某一临界值时就变为稳定核,再不断吸附其他扩散原子而逐步长大,***后与邻近稳定核合并进而变成连续膜。磁控溅射本身粒子初始动能比较小,离化率低,电源功率越大,溅射出的粒子的初始能量越大,靶材溅射量也越大,沉积速率越快,膜层容易上厚度和硬度,同时工件温升也大,过高的功率会使沉积速率太快,粒子来不及表面迁移和扩散,易形成阴影效应,膜层会比较疏松,应力较大。
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响
靶基距:靶基距是影响成膜速率的重要因素之一,随着靶基距增加,被溅射材料射向基片时与气体分子碰撞的次数增多,同时等离子体密度也减弱,动能减少,沉积速率降低,但膜层外观较好。靶基距太小,沉积太快,工件温升大,膜层外观差。
靶功率;真空镀膜技术优点主要表现在以下几个方面:5、改善表面硬度,原塑胶表面比金属软而易受损害,通过真空镀膜技术,硬度及耐磨性大大增加。磁控溅射本身粒子初始动能比较小,离化率低,电源功率越大,溅射出的粒子的初始能量越大,靶材溅射量也越大,沉积速率越快,膜层容易上厚度和硬度,同时工件温升也大,过高的功率会使沉积速率太快,粒子来不及表面迁移和扩散,易形成阴影效应,膜层会比较疏松,应力较大。
有机镀膜与无机镀膜的根本区别
汽车镀膜产品种类繁多,无机质镀膜的理念在汽车美容行业逐渐渗透。很多标榜无机类镀膜的产品,其实本身并不是真正的无机物,夸大其词的宣传往往给消费者造成信息误导。究竟什么产品才是真正的无机质镀膜呢?
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