珠海车灯反光灯镀膜加工免费咨询「锦城镀膜」

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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 ：

在膜层沉积时，用于增加离子能量，促进和改善薄膜生长，提高膜基结合力。

偏压越大离子附加能量越强，沉积过程中对膜层的轰击净化作用越明显，膜层越致密，同时颜色会越浅，膜层L值（亮度）会增加，显微硬度会增加、同时膜层外观粗糙度会变差，沉积过程中工件和膜层温升越大，偏压太大可能使工件变形受伤，或产生热应力崩膜。

靶基距：靶基距是影响成膜速率的重要因素之一，随着靶基距增加，被溅射材料射向基片时与气体分子碰撞的次数增多，同时等离子体密度也减弱，动能减少，沉积速率降低，但膜层外观较好。靶基距太小，沉积太快，工件温升大，膜层外观差。

占空比：占空比是指脉冲偏压的通断时间比，占空比越大，同一个周期时间内偏压输出时间越长，增大占空比可以提高离子轰击的能量，有利于提高膜基结合力和膜层致密性和膜层的硬度，但会提高工件的温升；减小占空比有利于***打火损伤和降低工件表面的温度、辉光放电清洗和离子轰击的效果。溅射过程是建立在气体放电基础上的，放电从低压下开始的，气体离子与靶材相互作用，离子不断的撞击靶表面，靶材从靶表面被轰击下来然后在靶附近的基片（玻璃）上沉积下来，凝结成一层薄膜。

真空度：真空度是指处于真空状态下气体的稀薄程度,用压强表示,压强越低,其稀薄程度越大,真空度越高。镀膜过程中,真空度主要通过控制ya气流量来改变。

有机镀膜与无机镀膜的根本区别

有机物王要指含有碳、氢两种元素的化合物，容易氧化、可燃烧、会降解。有机物的熔点较低，一般不超过400℃，热稳定性差，容易受热分解。比如含有j基（Me化学式-CH3)的化合物，因成分中含有碳氢基团，都属于有机类物质。通过镀膜可以改变基片的某些属性，如光学性能、电学性能、机械性能、化学性能、装饰性能等。无机物指不含碳元素的纯净物，其特点：1。一般不含碳元素2。分子较小3。通常不可燃烧。如二氧化硅（SiO2），中文别名r石英砂，属于无机物。二氧化硅Sio2的熔点、沸点较高（熔点1723℃，沸点2230℃）。