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发布时间:2022-05-24 02:28:31
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真空镀膜之磁控溅射镀膜 :
电子的运动路径不仅很长,而且被电磁场束缚在靠近靶表面的等离子体区域内,在该区中电离出大量的离子用来轰击靶材,从而实现了磁控溅射沉积速率高的特点。随着碰撞次数的增加,电子的能量逐渐降低,同时逐步远离靶面。低能电子沿着磁力线来回振荡,待电子能量将耗尽时,在电场的作用下终沉积在基片上。由于该电子的能量很低,传给基片的能量很小,致使基片温升较低。由于磁极轴线处电场与磁场平行,电子将直接飞向基片。但是在磁控溅射装置中, 磁极轴线处离子密度很低, 所以这类电子很小,对基片温升作用不大。真空镀膜技术是使置待镀金属和被镀塑料制品位于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使金属蒸发或升华,金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。
离子镀时,蒸发料粒子是以带电离子的形式在电场中沿着电力线方向运动,习而凡是有电场存在的部位,均能获得良好镀层,这比普通真空镀膜只能在直射向上获得镀层优越得多。因此,这种方法非常适合于镀复零件上的内孔、凹槽0窄缝。等其他方法难镀的部位。
有机镀膜与无机镀膜的根本区别
汽车镀膜产品种类繁多,无机质镀膜的理念在汽车美容行业逐渐渗透。很多标榜无机类镀膜的产品,其实本身并不是真正的无机物,夸大其词的宣传往往给消费者造成信息误导。究竟什么产品才是真正的无机质镀膜呢?
反应溅射就是在反应气体环境中镀膜,溅射过程中靶材会与溅射气体发生化学反应。反应溅射一般沉积不导电的膜层,例如:Snox,ZnOx,Siox,SiNx等。在反应溅射系统中,一般都加入Ar加速反应速度,即提高溅射速率。在反应溅射气氛中,加入工作气体越多,溅射速率越高,当加入的工作气体过多时,反应气体来不急将所有溅射出来的原子反应掉,膜层内就会含有金属,我们把这种状态叫翻转。在反应溅射过程中,无论翻转与正常状态,靶的溅射速率都没有不反应溅射速率高。物理q相沉积法真空镀膜技术(由于这种方法基本上都是处于真空环境下进行的,因此称它们为真空镀膜技术)。
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